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分散劑解決光刻膠中固體顆粒分散難題

在光刻膠制造中，光引發(fā)劑、顏料等固體顆粒的分散均勻性直接影響成膜質(zhì)量和光固化效率。凱密泰克（Chemi Tech）開(kāi)發(fā)的專(zhuān)用分散劑通過(guò)獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，有效降低顆粒表面能，防止團(tuán)聚現(xiàn)象。其作用機(jī)制包括：

錨固基團(tuán)吸附：分散劑中的極性基團(tuán)緊密包覆顆粒表面，形成空間位阻層，減少顆粒間范德華力。

溶劑化鏈延伸：在樹(shù)脂體系中展開(kāi)的長(zhǎng)鏈結(jié)構(gòu)維持分散穩(wěn)定性，尤其在高速攪拌和長(zhǎng)期儲(chǔ)存中抑制沉降。

光刻膠應(yīng)用案例：

某半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)采用凱密泰克分散劑處理納米級(jí)光引發(fā)劑（粒徑≤200 nm）。結(jié)果顯示：

分散后顆粒粒徑分布標(biāo)準(zhǔn)差下降至±15 nm（原為±50 nm）；

光固化效率提升30%，因顆粒均勻分布增強(qiáng)了紫外光吸收一致性；

光刻線條邊緣粗糙度（LER）降低至5 nm以下，滿足DUV光刻精度需求。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

兼容性強(qiáng)：適用于丙烯酸酯、環(huán)氧樹(shù)脂等主流光刻膠體系；

低添加量：僅需0.5~2 wt%即可實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)效分散；

耐溫性：在光刻膠烘烤工序（80~120℃）中保持性能穩(wěn)定。